超高真空溅射系统
STM2323是单个晶圆溅射系统适用于超高真空。 它提供了10的排气性能7Pa背景压力溅射室。-7 他系统是由一个负载制动室、盒式室,传输室和溅射室(总共6室),从而使形成的多种类型的电影和超高真空下处理。 这个系统是开发磁性设备和化合物特别有效。
(特性)
这一最新multi-chamber系统适用直径8英寸晶圆。
它是用于研究和开发的尖端设备(磁设备、氮化物半导体氧化物半导体等)。
STM2323是单个晶圆溅射系统适用于超高真空。 它提供了10的排气性能7Pa背景压力溅射室。-7 他系统是由一个负载制动室、盒式室,传输室和溅射室(总共6室),从而使形成的多种类型的电影和超高真空下处理。 这个系统是开发磁性设备和化合物特别有效。
这一最新multi-chamber系统适用直径8英寸晶圆。
它是用于研究和开发的尖端设备(磁设备、氮化物半导体氧化物半导体等)。