等离子体CVD系统 产品概述 规范 这个大型等离子体CVD系统与600毫米基质。它形成细硅氧化物电影适合生产薄膜电容器。 负载制动型等离子体CVD系统 规范 相关产品 批处理类型溅射系统 气相沉积系统的大型树脂基质 Multi-chamber溅射系统 溅射系统的R & D 标准气相沉积系统 查看更多